フォトレジスト（英語表記）photoresist

デジタル大辞泉

フォトレジスト（photoresist）

光・紫外線などを光源とするレジスト。IC回路・LSI回路・プリント配線などの作製に用いられる。光レジスト。

出典　小学館

精選版 日本国語大辞典

フォト‐レジスト

〘名〙 (photoresist) 薄膜にして光・紫外線などを照射すると、当たった部分だけが構造変化し、耐薬品性の硬膜をつくったり、薬品に溶けやすくなったりする材料。ＩＣ回路・ＬＳＩ回路・プリント配線などの作製に用いられる。

出典　精選版 日本国語大辞典

百科事典マイペディア

フォトレジスト

主として半導体の微細加工に用いられる感光性樹脂をいう。半導体ウェーハー表面に集積回路を形成するときなどに，表面に均一に塗布し，乾燥後ネガマスクを置いて紫外線を照射，回路パターンを焼き付ける。フォトレジストの光が当たった部分だけ重合反応が起きて硬化するので，残りの部分を溶かしたのち，フッ化水素酸やプラズマガスなどによるエッチングで酸化薄膜を削り去り，半導体表面を露出させる。
→関連項目感光性高分子｜機能性高分子｜東京応化工業［株］｜フォトエッチング

出典　株式会社平凡社

ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典

フォトレジスト
photoresist

感光性耐食被膜のことをいう。金属，半導体などに微細加工を施す際に，写真技術と化学腐食 (エッチング) を用いるフォトエッチングにおいて用いられる。エッチングにより微小部分を取去りたい金属や半導体の表面にフォトレジストを薄膜状に塗布し，これにフォトマスクを当てて紫外線を照射して感光させる。マスクの透明な部分だけ紫外線が透過し，照射された部分は重合が進んで有機溶剤 (現像液) に溶けなくなる。未感光部は溶けるので，フォトマスク上の図形に相当した図形が金属や半導体表面に再現される。紫外線の感光部が現像液に溶ける場合もありこれをポジ型といい，未感光部が溶ける場合をネガ型という。

出典　ブリタニカ国際大百科事典 小項目事典

世界大百科事典（旧版）内のフォトレジストの言及

【集積回路】より

…パターン形成した表面の膜は，イオン注入に対するマスクとなる。このマスクには二酸化シリコンSiO₂，窒化シリコンSiN₄，アルミニウムAlの蒸着膜および後述のフォトレジストが用いられる。このような方法で，例えばp型シリコン基板にリンP，またはヒ素Asのイオンを注入してn型領域を形成し，ここをp‐n接合とすることができる。…

【フォトファブリケーション】より

…現在ではとくにエレクトロニクスの分野では欠かすことのできない技術となり，各分野で広範囲に利用されている。　工程としては基板上に感光性をもつフォトレジスト層を設け，写真原版よりパターンを露光，必要部分を残して溶解除去し，エッチングまたはめっき方法により微細加工する(前者をフォトエッチング，後者をフォトエレクトロフォーミングという)。写真原版は希望する図柄を伸縮の少ないフィルム上に拡大して描き，その原図を特殊な縮写用カメラで通常数百分の1の大きさに縮写し，多面付けして作成する。…

※「フォトレジスト」について言及している用語解説の一部を掲載しています。

出典｜株式会社平凡社「世界大百科事典（旧版）」